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光化學(xué)方法殘氧儀TecScan頂空分析儀

更新時(shí)間:2022-06-08      點(diǎn)擊次數(shù):2068


奧地利TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀是奧地利兩位科學(xué)家發(fā)明的非接觸式頂空分析儀,無(wú)損殘氧儀,專(zhuān)門(mén)應(yīng)用在氣調(diào)包裝和制藥殘氧檢測(cè)行業(yè),TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀是MAP食品包裝廠(chǎng)和如大輸液,安剖瓶,抗生素,麻醉劑等藥品行業(yè)的殘氧檢測(cè)應(yīng)用。

·       光化學(xué)方法的頂空分析儀不僅可以測(cè)量氣體中的氧氣含量,還以測(cè)量液體中的氧氣含量。

·       傳感器通過(guò)光電化學(xué)點(diǎn)的透明包裝

·       光電化學(xué)點(diǎn)可作為粘合劑或打印點(diǎn)

·       無(wú)需氣體抽出– 對(duì)于小氣量和液體非常適合

·       光電化學(xué)點(diǎn)工廠(chǎng)校準(zhǔn)

·       自檢程序

·       測(cè)試時(shí)間 < 3s

·       TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀

性能

氣體

液體

測(cè)試范圍

0.05 – 25% Vol.%

0 – 10   (20)mg/L

準(zhǔn)確度:

± 0.02% oder   < ±2%   from value

± 0.05mg/l   oder < ±2%   from value

分辨率:

0.02%

<0.02mg/l

響應(yīng)時(shí)間:

< 1 s

Abh?ngig   von der Schutzklasse
  typisch 3s –   30s

校準(zhǔn):

20° / 25° / 37°
 
(additional temperatures optional)


·       TecScan頂空分析儀殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀應(yīng)用:

·       制藥與生物技術(shù)
食品工業(yè)/地圖包裝
細(xì)菌學(xué).(病原體)微生物生長(zhǎng)的檢測(cè).生物化學(xué)和分子生物學(xué)的研究與開(kāi)發(fā)
絕緣玻璃工業(yè)

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